Avancement du revêtement

Charger le système d'échantillons dans la chambre de revêtement.

Le dépôt de revêtements PVD nécessite un vide poussé. Le système de revêtement de Huasheng fonctionne en deux étapes : d’abord, une pompe mécanique réduit la pression de la chambre à vide de 1 000 mbar à 10⁻¹ mbar ; ensuite, une pompe turbomoléculaire génère un vide poussé d’environ 1 × 10⁻⁶ bar.

Chauffer la chambre à environ 500 °C, qui est la température de procédé conventionnelle.

Le système de revêtement de Huasheng utilise trois technologies de gravure différentes : HUASHENG® (décharge luminescente latérale) ; gravure au plasma d'argon, décharge luminescente ; gravure aux ions métalliques (Ti+, Cr+).

Le dépôt du revêtement est réalisé à l'aide de la technologie PVD (placage ionique à l'arc, pulvérisation cathodique magnétronique ou technologie de cathode intégrée HUASHENG®).

Refroidir la chambre de revêtement.

Décharger le système d'échantillons de la chambre de revêtement.